薄膜開關導電性能優(yōu)化策略二：工藝精進與技術創(chuàng)新

除了材料的選擇，工藝的精進和技術創(chuàng)新同樣對薄膜開關的導電性能有著重要影響。在制備過程中，通過優(yōu)化印刷工藝，如調(diào)整印刷速度、壓力和刮刀硬度，可以確保導電層均勻分布，減少電阻和電容損耗。同時，采用先進的沉積技術，如濺射沉積或化學氣相沉積，可以形成更加致密、均勻的導電層，進一步提升導電性能。此外，通過引入激光刻蝕等微加工技術，可以精確控制導電層的形狀和尺寸，從而優(yōu)化導電路徑，減少不必要的電阻和電容損耗。